奥普光电7月22日在互动平台表示，公司在敞开式光栅尺的基础上，已开始高精度光栅刻划的研究工作，并完成了理论验证，预计在年底之前可完成高精度（±1um）光栅尺的正式样机；公司同时开展了超精尺的研发工作，尚处于原理样机开发阶段。